半導體產(chǎn)業(yè)是我國電子信息產(chǎn)業(yè)的重要組成部分，近年來發(fā)展迅速。我國半導體產(chǎn)業(yè)的主要產(chǎn)品包括芯片、半導體器件、半導體材料等，應用范圍廣泛，包括計算機、通信、消費電子、汽車、工業(yè)控制等領(lǐng)域。我國半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展經(jīng)歷了從引進到自主研發(fā)的過程，現(xiàn)在已經(jīng)具備了一定的技術(shù)實力和規(guī)模優(yōu)勢，除了國內(nèi)市場外，還積極發(fā)展海外市場。

半導體清潔程度對于產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要，能直接影響到產(chǎn)品的安全性和可靠性。半導體清潔不好會導致晶圓表面的雜質(zhì)含量增加，從而影響到電子元件的工作性能和壽命。在半導體生產(chǎn)中，常常會進行蝕刻、切割、焊接等工藝，會造成半導體表面產(chǎn)生各種雜質(zhì)。這些雜質(zhì)成分的清洗需要采用到高純度的超純水，才能避免對半導體造成污染。

超純水成分簡單，除了氫原子和氧原子之外，基本不含有任何有機物、金屬離子、鹽分、細菌和微生物。應用超純水清洗半導體不但可以去除半導體表面的污垢，也不用擔心對其造成腐蝕和污染。超純水設備是生產(chǎn)這種超純水的專用設備，采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術(shù)工藝，生產(chǎn)超純水連續(xù)穩(wěn)定，生產(chǎn)過程無污染、能耗低。

反滲透膜可以有效分離去除超純水中除了氫氧原子之外的雜質(zhì)成分，是一種物理分離方式。EDI技術(shù)能實現(xiàn)帶電荷運行，加快離子遷移速度，實現(xiàn)超純水深度脫鹽。拋光混床工藝處理有力保障超純水設備出水質(zhì)量，使出水質(zhì)量達到18MΩ*cm(25℃)。

超純水設備生產(chǎn)超純水質(zhì)量可靠，應用在半導體行業(yè)中能確保產(chǎn)品質(zhì)量，降低產(chǎn)品報廢率，從而提高半導體產(chǎn)業(yè)的整體效益，對促進我國半導體科技發(fā)展有重要價值。